SÜSS MicroTec SE
SÜSS MicroTec erweitert mit dem MaskTrack GlueBuster sein Angebot im Bereich Fotomasken-Equipment
SÜSS MicroTec erweitert mit dem MaskTrack GlueBuster sein Angebot im Bereich Fotomasken-Equipment
Das SÜSS GlueBuster-System kombiniert präzise physikalische Kräfte mit einer innovativen Dosiermethode für die spezifischen Reinigungschemikalien und reduziert so das Volumen und die Kosten der Chemikalien, die bei der Entfernung von Pellicle-Klebstoffen verwendet werden. Der Reinigungsprozess sowie alle weiteren chemischen Nebenprodukte sind mit GlueBuster auf den Randbereich der Fotomaske beschränkt, da das neue System ausschließlich auf den Bereich der Kleberreste einwirkt. Damit kann die Unversehrtheit der IC-Strukturen perfekt gewährleistet werden. “SÜSS MicroTec adressiert mit dem GlueBuster-System wichtige Kosten-, Qualitäts- und Umweltanforderungen, die in Halbleiterindustrie seit Jahrzehnten ein wichtiges Thema sind”, sagt Yuta Nagai, General Manager der Fotomasken-Equipment Produktlinie von SÜSS MicroTec. “Durch die Vermeidung langer Reinigungszyklen auf Schwefelsäurebasis und durch die Einbeziehung unterschiedlicher Chemikalien gepaart mit unseren neuen und innovativen Techniken zur Entfernung von Pellicle-Klebstoffen, kann die Wartung von Fotomasken jetzt zu wesentlich geringeren Betriebskosten durchgeführt werden. Damit wird bei deutlich verringerten Prozesskosten die Integrität des aktiven Strukturbereiches optimal aufrechterhalten und die Lebensdauer der einzelnen Fotomaske erheblich verlängert.” GlueBuster ist als Einzelsystem oder als an die MaskTrack X Fotomasken-Reinigungsplattform angebundenes Modul verfügbar. Die neuen Prozesschemikalien des GlueBuster-Systems wurden bereits erfolgreich getestet und in Zusammenarbeit mit Mitsui Chemicals, Inc., einem weltweiten Anbieter von Pellicles sowie einem führenden US-amerikanischen Maskenhersteller ausgewählt.
Über SÜSS MicroTec SÜSS MicroTec ist einer der weltweit führenden Hersteller von Anlagen- und Prozesslösungen für die Mikrostrukturierung in der Halbleiterindustrie und verwandten Märkten. In enger Zusammenarbeit mit Forschungsinstituten und Industriepartnern treibt SÜSS MicroTec die Entwicklung von neuen Technologien wie 3D Integration und Nanoimprint Lithographie sowie Schlüsselprozesse für die MEMS und LED Produktion voran. Weltweit sind mehr als 8.000 installierte Systeme von SÜSS MicroTec im Einsatz, unterstützt von einer globalen Infrastruktur für Applikationen und Service. Hauptsitz der SÜSS Gruppe ist in Garching bei München. Für weitere Informationen besuchen Sie www.suss.com. Kontakt: SÜSS MicroTec SE Franka Schielke Senior Manager Investor Relations Schleissheimer Strasse 90 85748 Garching, Deutschland franka.schielke@suss.com Tel.: +49 89 32007-161 Fax: +49 (0)89 32007-451 Email: franka.schielke@suss.com Ende der Pressemitteilung Emittent/Herausgeber: SÜSS MicroTec SE Schlagwort(e): Forschung/Technologie
09.04.2018 Veröffentlichung einer Pressemitteilung, übermittelt durch DGAP – ein Service der EQS Group AG. |
Sprache: | Deutsch |
Unternehmen: | SÜSS MicroTec SE |
Schleissheimer Strasse 90 | |
85748 Garching | |
Deutschland | |
Telefon: | +49 (0)89 32007-161 |
Fax: | +49 (0)89 32007-451 |
E-Mail: | ir@suss.com |
Internet: | www.suss.com |
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